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LPCVD (立式/臥式)
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LPCVD設(shè)備是半導(dǎo)體集成電路制造的重要設(shè)備之一，主要用于Poly, D/P Poly, SiN,SiO2薄膜的生長(zhǎng)。
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? LPCVD設(shè)備是半導(dǎo)體集成電路制造的重要設(shè)備之一， 主要用于多晶硅、氮化硅、氧化硅薄膜的生長(zhǎng),它是將原材料氣體(或者液態(tài)源氣化)用熱能激活發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而在基片表面生成固體薄膜，LPCVD過程是在低壓下進(jìn)行的，由于氣壓低，氣體分子平均自由程大，使生長(zhǎng)的薄膜均勻性好，此外基片可以豎放使得設(shè)備裝片量大，特別適用于工業(yè)化生產(chǎn)
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? LPCVD設(shè)備是半導(dǎo)體集成電路制造的重要設(shè)備之一， 主要用于多晶硅、氮化硅、氧化硅薄膜的生長(zhǎng),它是將原材料氣體(或者液態(tài)源氣化)用熱能激活發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而在基片表面生成固體薄膜，LPCVD過程是在低壓下進(jìn)行的，由于氣壓低，氣體分子平均自由程大，使生長(zhǎng)的薄膜均勻性好，此外基片可以豎放使得設(shè)備裝片量大，特別適用于工業(yè)化生產(chǎn)
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